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主要栽培措施:

植距:1.7米(行距)×0.7米(株距)亩留苗:600株大右。施足底肥,以发挥其丰产潜力。双蔓或三蔓裁,选留第3-4个雌花座果。辅以人工授粉、阴雨天气粉后套袋,可提高座瓜率,提倡氮、磷、钾及微量素配比施肥,以利于培植壮苗、本品种适用于露题晚茬西瓜栽培,优40号

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